Viquipèdia

Fitxer:Argonne's Tribology Lab Plasma-Assisted Chemical-Vapor Deposition.jpg

Fitxer original ‎(3.000 × 2.855 píxels, mida del fitxer: 2,66 Mo, tipus MIME: image/jpeg)

Descripció a Commons
Descripció This commercial system was designed for the semiconductor field and contains three 8"-diameter targets that can be run individually or simultaneously to deposit metallic or dielectric film son substrates ranging up to 24" in diameter. See the entire <a href="http://www.transportation.anl.gov/facilities/tribology_tour.html">Tribology Laboratory photo tour</a>. View more about Argonne's transportation research at <a href="http://www.transportation.anl.gov">www.transportation.anl.gov</a>. Photo courtesy of <a href="http://www.anl.gov">Argonne National Laboratory</a>.
Data
Font Flickr: Argonne's Tribology Lab: Plasma-Assisted Chemical-Vapor Deposition
Autor Argonne National Laboratory
Permís
(Com reutilitzar aquest fitxer)
This image, which was originally posted to Flickr, was uploaded to Commons using Flickr upload bot on 27 d'octubre de 2011, 02:16 by Oaktree b. On that date, it was confirmed to be licensed under the terms of the license indicated.
w:ca:Creative Commons
reconeixement compartir igual
Aquest fitxer està publicat sota la llicència de Creative Commons Reconeixement i Compartir Igual 2.0 Genèrica.
Sou lliure de:
  • compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
  • adaptar – fer-ne obres derivades
Amb les condicions següents:
  • reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
  • compartir igual – Si modifiqueu, transformeu, o generareu amb el material, haureu de distribuir les vostres contribucions sota una llicència similar o una de compatible com l'original

Llegendes

Afegeix una explicació d'una línia del que representa aquest fitxer

Elements representats en aquest fitxer

representa l'entitat

mida de les dades

2.790.834 byte

alçària

2.855 píxel

amplada

3.000 píxel

Historial del fitxer

Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.

Data/horaMiniaturaDimensionsUsuari/aComentari
actual04:17, 27 oct 2011Miniatura per a la versió del 04:17, 27 oct 20113.000 × 2.855 (2,66 Mo)Flickr upload botUploaded from http://flickr.com/photo/35734278@N05/3469453524 using Flickr upload bot

La pàgina següent utilitza aquest fitxer:

Ús global del fitxer

Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:

Metadades

Aquest fitxer conté informació addicional, probablement afegida per la càmera digital o l'escàner utilitzat per a crear-lo o digitalitzar-lo. Si s'ha modificat posteriorment, alguns detalls poden no reflectir les dades reals del fitxer modificat.

Obtingut de «https://ca.wikipedia.org/wiki/Fitxer:Argonne%27s_Tribology_Lab_Plasma-Assisted_Chemical-Vapor_Deposition.jpg»