Fitxer:Bosch process sidewall.jpg
No hi ha cap versió amb una resolució més gran.
Bosch_process_sidewall.jpg (712 × 484 píxels, mida del fitxer: 203 Ko, tipus MIME: image/jpeg)
 | Aquest fitxer i la informació mostrada a continuació provenen del dipòsit multimèdia lliure Wikimedia Commons. Vegeu la pàgina original a Commons |
Resum
| Descripció |
English: Scanning electron micrograph of the undulating sidewall of a silicon structure fabricated using photolithography and deep reactive-ion etching (Bosch process) |
| Data | |
| Font | Treball propi |
| Autor | Pgalajda |
Llicència
|
Jo, el titular del copyright d'aquesta obra, l'allibero al domini públic. Això s'aplica a tot el món. En alguns països això pot no ser legalment possible, en tal cas: Jo faig concessió a tothom del dret d'usar aquesta obra per a qualsevol propòsit, sense cap condició llevat d'aquelles requerides per la llei. |
Historial del fitxer
Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.
| Data/hora | Miniatura | Dimensions | Usuari/a | Comentari | |
|---|---|---|---|---|---|
| actual | 18:08, 16 gen 2010 | | 712 × 484 (203 Ko) | Pgalajda | {{Information |Description={{en|1=Scanning electron micrograph of the undulating sidewall of a silicon structure fabricated using photolithography and deep reactive-ion etching (Bosch process)}} |Source={{own}} |Author=Pgalajda |Date=200 |
Ús del fitxer
La pàgina següent utilitza aquest fitxer:
Ús global del fitxer
Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:
- Utilització a en.wikipedia.org
- Utilització a fa.wikipedia.org
- Utilització a sv.wikipedia.org
- Utilització a www.wikidata.org
