Fitxer:Ion implanter schematic.png

Ion_implanter_schematic.png(500 × 486 píxels, mida del fitxer: 32 Ko, tipus MIME: image/png)

Descripció a Commons

Resum

Descripció
English: Schematics of an mass separating implantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of Uaccell and Udecell. Image created using Tgif.
Data
Font Treball propi
Autor Daniel Schwen
Altres versions
File:Ion implanter schematic.svg és una versió vectorial (SVG) d'aquest fitxer. En cas de ser millor, hauria de ser emprada en lloc d'aquesta imatge tramada.

File:Ion implanter schematic.png → File:Ion implanter schematic.svg

Per a més informació pel que fa als gràfics vectorials, llegiu la transició a SVG en Commons.
També hi ha informació quant a la compatibilitat del MediaWiki amb les imatges SVG.

En altres idiomes
Alemannisch  Bahasa Indonesia  Bahasa Melayu  British English  català  čeština  dansk  Deutsch  eesti  English  español  Esperanto  euskara  français  Frysk  galego  hrvatski  Ido  italiano  lietuvių  magyar  Nederlands  norsk bokmål  norsk nynorsk  occitan  Plattdüütsch  polski  português  português do Brasil  română  Scots  sicilianu  slovenčina  slovenščina  suomi  svenska  Tiếng Việt  Türkçe  vèneto  Ελληνικά  беларуская (тарашкевіца)  български  македонски  нохчийн  русский  српски / srpski  татарча/tatarça  українська  ქართული  հայերեն  বাংলা  தமிழ்  മലയാളം  ไทย  한국어  日本語  简体中文  繁體中文  עברית  العربية  فارسی  +/−
Nova imatge SVG

Aquesta imatge, o les imatges d'aquesta categoria, utilitza etiquetes o llegendes en un alfabet o llengua particular i es podria convertir a una forma lingüística neutra. Això permetria el seu ús en tots els projectes de Wikimedia i, encara més important, en totes les llengües de Wikimedia.

Bahasa Melayu  català  čeština  Deutsch  English  español  français  italiano  magyar  Nederlands  Plattdüütsch  português  sicilianu  slovenčina  suomi  беларуская (тарашкевіца)‎  македонски  русский  српски / srpski  한국어  日本語  中文  中文(简体)‎  فارسی  +/−

Llicència

GNU head S'autoritza la còpia, la distribució i la modificació d'aquest document sota els termes de la llicència de documentació lliure GNU versió 1.2 o qualsevol altra versió posterior que publiqui la Free Software Foundation; sense seccions invariants, ni textos de portada, ni textos de contraportada. S'inclou una còpia d'aquesta llicència en la secció titulada GNU Free Documentation License.
w:ca:Creative Commons
reconeixement compartir igual
Aquest fitxer està subjecte a la llicència de Creative Commons Reconeixement i Compartir Igual 3.0 No adaptada.
Sou lliure de:
  • compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
  • adaptar – fer-ne obres derivades
Amb les condicions següents:
  • reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
  • compartir igual – Si modifiqueu, transformeu, o generareu amb el material, haureu de distribuir les vostres contribucions sota una llicència similar o una de compatible com l'original
Aquest avís de llicència s'ha afegit a aquest fitxer d'acord amb l'actualització de la llicència GFDL.

Llegendes

Afegeix una explicació d'una línia del que representa aquest fitxer

Elements representats en aquest fitxer

representa l'entitat

Historial del fitxer

Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.

Data/horaMiniaturaDimensionsUsuari/aComentari
actual23:48, 3 jul 2005Miniatura per a la versió del 23:48, 3 jul 2005500 × 486 (32 Ko)DschwenSchematics of an mass separating en:ion implantationimplantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of U<sub>accell</sub> and U<sub>decell</sub>. Image created by user:Dschwen u

La pàgina següent utilitza aquest fitxer:

Ús global del fitxer

Utilització d'aquest fitxer en altres wikis: