Fitxer:Semiconductor fabrication with and without CMP DE.svg
Mida d'aquesta previsualització PNG del fitxer SVG: 800 × 444 píxels. Altres resolucions: 320 × 178 píxels | 640 × 355 píxels | 1.024 × 568 píxels | 1.280 × 710 píxels | 2.560 × 1.420 píxels.
Fitxer original (fitxer SVG, nominalment 1.024 × 568 píxels, mida del fitxer: 32 Ko)
Historial del fitxer
Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.
Data/hora | Miniatura | Dimensions | Usuari/a | Comentari | |
---|---|---|---|---|---|
actual | 17:58, 24 nov 2008 | 1.024 × 568 (32 Ko) | Cepheiden | Add legend | |
10:36, 8 jul 2008 | 1.850 × 1.020 (26 Ko) | Cepheiden | {{Information |Description={{en|1=Comparison between semiconductor circuits manufactured with and without chemical-mechanical polishing (cross section)}} {{de|1=Vergleich zwischen Halbleiterschaltkreisen hergestellt mit und ohne chemisch-mechanisches Poli |
Ús del fitxer
La pàgina següent utilitza aquest fitxer:
Ús global del fitxer
Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:
- Utilització a de.wikipedia.org