Fitxer:Shallow trench isolation process.svg

Fitxer original(fitxer SVG, nominalment 768 × 820 píxels, mida del fitxer: 23 Ko)

Descripció a Commons

Resum

Descripció
English: The shallow trench isolation fabrication process of modern integrated circuits in cross-sections. English translation from German. Original work by Cepheiden.
Data
Font Translation from German Wiki
Autor Envido32

Llicència

Jo, el titular dels drets d'autor d'aquest treball, el public sota la següent llicència:
w:ca:Creative Commons
reconeixement compartir igual
This file is licensed under the Creative Commons Attribution-Share Alike 4.0 International license.
Sou lliure de:
  • compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
  • adaptar – fer-ne obres derivades
Amb les condicions següents:
  • reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
  • compartir igual – Si modifiqueu, transformeu, o generareu amb el material, haureu de distribuir les vostres contribucions sota una llicència similar o una de compatible com l'original

Llegendes

Afegeix una explicació d'una línia del que representa aquest fitxer

Elements representats en aquest fitxer

representa l'entitat

Historial del fitxer

Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.

Data/horaMiniaturaDimensionsUsuari/aComentari
actual05:12, 13 gen 2022Miniatura per a la versió del 05:12, 13 gen 2022768 × 820 (23 Ko)Envido32Fixed grammar error
16:23, 5 des 2017Miniatura per a la versió del 16:23, 5 des 2017768 × 820 (23 Ko)Envido32Cross-wiki upload from en.wikipedia.org

Les 2 pàgines següents utilitzen aquest fitxer:

Ús global del fitxer

Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:

Metadades