130 nanòmetres

130 nanòmetres (130 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 130 nm. És una millora de la tecnologia de 180 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de $130\simeq {\frac {180}{\sqrt {2}}}$ . Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 240 àtoms de llargada.^[1]^[2]

Fig.1 Exemple de tecnologia de 130 nm : IBM Gekko

Tecnologia Any

10 um 1971

6 um 1974

3 um 1977

1,5 um 1982

1 um 1985

800 nm 1989

600 nm 1994

350 nm 1995

250 nm 1997

180 nm 1999

**130 nm** 2001

90 nm 2004

65 nm 2006

45 nm 2008

32 nm 2010

22 nm 2012

14 nm 2014

10 nm 2017

7 nm 2018

5 nm 2020

Tecnologia emprada modifica

Tecnologia de litografia millorada.

Processadors modifica

Fabricant	Data	CPU
Motorola	2002	PowerPC 7447, 7457
IBM	2002	Gekko
Intel	2002	Pentium III, 4, M, Celeron, Xeon
AMD	2002	Athlon XP, MP, Duron, K7 K8 Sempron,64, Opteron

^[3]

Fabricant	Intel		TSMC		Samsung		Fujitsu		IBM / Infineon / UMC		Motorola		AMD		NEC		NEC		TI		TI
Nom del procés	P860						CS-91		CMOS 9S		HiPerMOS 7
Primera producció	2001		2001		2001		2002		2001		2001		2002		2001		2001		2001
Tipus	Bulk								PDSOI		Bulk
Capes de Metal	6								8		8				5		7		6		7
	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ	Value	180 nm Δ
Pas de contacte de porta	319 nm	0.66x	310 nm	?x	350 nm	?x	? nm	?x	350 nm	?x	350 nm	?x	350 nm	?x	?nm	?x	?nm	?x	?nm	?x	?nm	?x
Pas de connexió	345 nm	0.69x	340 nm	?x	350 nm	?x	? nm	?x	320 nm	?x	350 nm	?x	350 nm	?x	?nm	?x	?nm	?x	?nm	?x	?nm	?x
Cel·lula 1 bit de RAM	2.45 µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x
Cel·lula 1 bit de DRAM	2.09 µm²	0.36x	2.14 µm²	0.46x	? µm²	?x	1.98 µm²	0.47x	1.8 µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x	? µm²	?x

Vegeu també modifica

Circuit integrat
Tecnologia litogràfica

Referències modifica

↑ «130 nm lithography process - WikiChip» (en anglès). en.wikichip.org. [Consulta: 18 març 2017].
↑ «Suppliers ready 130-nm processes for production | EE Times» (en anglès). www.eetimes.com. [Consulta: 19 març 2017].
↑ «130 nm lithography process - WikiChip» (en anglès). en.wikichip.org. [Consulta: 19 març 2017].

[1] «130 nm lithography process - WikiChip» (en anglès). en.wikichip.org. [Consulta: 18 març 2017].

[2] «Suppliers ready 130-nm processes for production | EE Times» (en anglès). www.eetimes.com. [Consulta: 19 març 2017].

[3] «130 nm lithography process - WikiChip» (en anglès). en.wikichip.org. [Consulta: 19 març 2017].

[1]

[2]

[3]

Tecnologia	Any
10 um	1971
6 um	1974
3 um	1977
1,5 um	1982
1 um	1985
800 nm	1989
600 nm	1994
350 nm	1995
250 nm	1997
180 nm	1999
130 nm	2001
90 nm	2004
65 nm	2006
45 nm	2008
32 nm	2010
22 nm	2012
14 nm	2014
10 nm	2017
7 nm	2018
5 nm	2020