Diòxid de silici

compost químic

El compost químic conegut com a diòxid de silici o sílice és l'òxid de silici, amb fórmula química SiO2.

Infotaula de compost químicDiòxid de silici
Sample of silicon dioxide.jpg
Modifica el valor a Wikidata
Substància químicacompost químic i sòlid de xarxa covalent Modifica el valor a Wikidata
Massa molecular59,967 u, 60,0843 g/mol i 60,038 g/mol Modifica el valor a Wikidata
Estructura química
Fórmula químicaSiO₂ Modifica el valor a Wikidata
SiO2.svg
SMILES canònic
Model 2D
O=[Si]=O Modifica el valor a Wikidata
SMILES isomèric

O=Si=O Modifica el valor a Wikidata
Identificador InChIModel 3D Modifica el valor a Wikidata
Propietat
Solubilitat0,12 g/L (aigua, valor desconegut)
0,9 g/L (aigua destil·lada, 200 °C) Modifica el valor a Wikidata
Punt de fusió1.710 °C Modifica el valor a Wikidata
Punt d'ebullició2.230 °C (a 760 Torr) Modifica el valor a Wikidata
Pressió de vapor0 mmHg (a 20 °C) Modifica el valor a Wikidata
NFPA 704.svg
0
0
0
 
Modifica el valor a Wikidata
Altres
Higroscopicitat Modifica el valor a Wikidata

Es pot trobar a la natura en múltiples formes: quars, arena, cristobalita, òpal, sílex...

És el principal constituent de la sorra, principalment en forma de quars, ja que la gran duresa d'aquest el protegeix de l'erosió. Tot i això la composició de la sorra, varia en funció de la geologia i les condicions locals.

La inhalació de diòxid de silici cristal·li en la pols, pot provocar la silicosi, malaltia que afecta especialment als miners.

El diòxid de silici cristal·litzat és un material molt dur. S'empra per produir ones radioelèctriques d'una freqüència molt precisa, la qual cosa és molt útil per fabricar rellotges, aparells de ràdio, ordinadors, i qualsevol equip electrònic on cal una freqüència radioelèctrica molt precisa.

QuímicaModifica

El diòxid de silici es pot formar en escalfar silici a temperatures extremadament altes en presència d'oxigen (o aire). Ocasionalment, pot ocórrer de forma natural en incendis, o al caure un llamp sobre sorra.

El diòxid de silici es pot atacar amb àcids forts, particularment el fluorur d'hidrogen (HF). Precisament s'utilitza aquest àcid per eliminar o marcar el diòxid de silici en la indústria dels semiconductors.


A Wikimedia Commons hi ha contingut multimèdia relatiu a: Diòxid de silici


ReferènciesModifica